GB-T 28275-2012 硅基MEMS制造技术氢氧化钾腐蚀工艺规范

ICS31.200 L55 中华人民共和国国家标准 GB/T28275—2012 硅基MEMS制造技术氢氧化钾腐蚀工艺规范 Silicon-basedMEMSfabricationtechnology— SpecificationforKOHetchprocess 2012-05-11发布 2012-12-01实施中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局中国国家标准化管理委员会发布中华人民共和国国家标准硅基MEMS制造技术氢氧化钾腐蚀工艺规范 GB/T28275—2012 * 中国标准出版社出版发行北京市朝阳区和平里西街甲2号(100013) 北京市西城区三里河北街16号(100045) 网址:www.gb168.cn 服务热线:010-68522006 2012年10月第一版 * 书号:155066·1-45572 版权专有侵权必究前言本标准按照GB/T1.1—2009给出的规则起草。本标准由全国微机电技术标准化技术委员会(SAC/TC336)提出并归口。本标准起草单位:中国科学院上海微系统与信息技术研究所、重庆大学、东南大学、中国电子科技集团第四十九研究所、中机生产力促进中心。本标准主要起草人:夏伟锋、熊斌、冯飞、戈肖鸿、周再发、李玉玲、贺学锋、田雷、刘伟。 ⅠGB/T28275—2012

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